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- ICP干法等離子刻蝕機
等離子刻蝕機
PLUTO-WIN是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統,它通過優化的系統設計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小,專業...
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- CCP干法刻蝕機
PLUTO-WIN是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比CCP等離子體系統。作為一個多功能系統,它通過優化的系統設計與靈活的配置方案,獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小,專業...
- 400-1521-605
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